钼坩埚
我们制造的钼坩埚(Molybdenum Crucible),可依尺寸、壁厚、法兰/封口结构与使用环境进行客制化设计与生产。每件产品皆经高精度加工与严格检测,确保在熔炼、镀膜或反应过程中的结构稳定与低污染,降低报废风险、提升良率与一致性。
产品可广泛应用于电子束/热蒸镀、PVD/CVD、合金熔炼、晶体生长等制程,满足多种高温与真空环境需求。
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产品优点
- 高熔点与热稳定性:钼熔点高达2623 °C,在极端高温下仍能保持结构完整。
- 优异导热性:能快速均匀传导热能,提升制程效率与材料均质性。
- 化学惰性与耐蚀性:于真空及惰性气氛中表现稳定,降低污染风险。
- 高纯度材质:使用99.95% 以上高纯钼,确保产品洁净度与可靠性。
- 完全客制化制程:依据应用需求设计尺寸、厚度、开口形式。
- 高可靠性制造:精密加工与严格品质检测,确保尺寸精度与长期耐用性。
产品应用
- 半导体高温制程
- 真空蒸镀与电子束镀膜系统
- 金属与稀有材料熔炼
- 化学气相反应炉(CVD / PVD)
- 材料实验与晶体生长设备
产品规格
- 尺寸单位:mm
- 材质:高纯钼(Molybdenum,纯度99.95%以上)
- 料号编码格式:
 MC – OD – ID - L1 - L2
| 料号 | OD | ID | L1 | L2 | 
| MC-15-5-15-5 | 15 | 5 | 15 | 5 | 
| MC-20-10-20-10 | 20 | 10 | 20 | 10 | 
| MC-25-15-25-15 | 25 | 15 | 25 | 15 | 
| MC-30-20-30-20 | 30 | 20 | 30 | 20 | 
| MC-35-25-35-25 | 35 | 25 | 35 | 25 | 
| MC-40-30-40-30 | 40 | 30 | 40 | 30 | 
※除上述标准尺寸外,我们可依客户的实际应用需求客制不同尺寸、结构或厚度,亦可依图面生产。
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