鉬坩堝
我們製造的鉬坩堝(Molybdenum Crucible),可依尺寸、壁厚、法蘭/封口結構與使用環境進行客製化設計與生產。每件產品皆經高精度加工與嚴格檢測,確保在熔煉、鍍膜或反應過程中的結構穩定與低污染,降低報廢風險、提升良率與一致性。
產品可廣泛應用於電子束/熱蒸鍍、PVD/CVD、合金熔煉、晶體生長等製程,滿足多種高溫與真空環境需求。
歡迎填寫以下表單立即聯繫我們,我們將盡快提供專業諮詢服務。
產品優點
- 高熔點與熱穩定性:鉬熔點高達 2623 °C,在極端高溫下仍能保持結構完整。
- 優異導熱性:能快速均勻傳導熱能,提升製程效率與材料均質性。
- 化學惰性與耐蝕性:於真空及惰性氣氛中表現穩定,降低污染風險。
- 高純度材質:使用 99.95% 以上高純鉬,確保產品潔淨度與可靠性。
- 完全客製化製程:依據應用需求設計尺寸、厚度、開口形式。
- 高可靠性製造:精密加工與嚴格品質檢測,確保尺寸精度與長期耐用性。
產品應用
- 半導體高溫製程
- 真空蒸鍍與電子束鍍膜系統
- 金屬與稀有材料熔煉
- 化學氣相反應爐(CVD / PVD)
- 材料實驗與晶體生長設備
產品規格
- 尺寸單位:mm
- 材質:高純鉬(Molybdenum,純度99.95%以上)
- 料號編碼格式:
 MC – OD – ID - L1 - L2
| 料號 | OD | ID | L1 | L2 | 
| MC-15-5-15-5 | 15 | 5 | 15 | 5 | 
| MC-20-10-20-10 | 20 | 10 | 20 | 10 | 
| MC-25-15-25-15 | 25 | 15 | 25 | 15 | 
| MC-30-20-30-20 | 30 | 20 | 30 | 20 | 
| MC-35-25-35-25 | 35 | 25 | 35 | 25 | 
| MC-40-30-40-30 | 40 | 30 | 40 | 30 | 
※除上述標準尺寸外,我們可依客戶的實際應用需求客製不同尺寸、結構或厚度,亦可依圖面生產。
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