베스펠 시리즈

Shen-Yueh는 반도체 환경에 맞춘 맞춤형 Vespel 부품을 제공합니다.

반도체 장비를 위한 고성능 Vespel 엔지니어링 플라스틱 구성 요소에 집중합니다.

Shen-Yueh는 반도체 장비를 위해 설계된 고품질 Vespel 가공 서비스를 제공하며, 고온, 진공, 플라즈마, 화학 저항성 및 저입자 조건에서 안정적인 성능을 보장합니다. 우리의 솔루션은 웨이퍼 처리, 포토마스크 작업, 에칭, 박막 및 CMP 공정에서 신뢰성과 생산성을 향상시키는 데 도움을 줍니다.

제품 특징：

맞춤형 가공 능력
고객 도면에 기반한 제조 또는 샘플에서의 역설계.반도체 정밀도 및 청결 요구 사항을 충족하기 위해 여러 Vespel 등급(SP-1 / SP-21 / SP-22 / SP-211 / CR 시리즈)을 사용할 수 있습니다.
고온 저항 및 화학 내구성
진공 챔버, 열 처리 및 플라즈마 환경에 적합합니다.고온, 산/알칼리 및 화학 가스에 대한 장기 노출을 견디며 안정적인 작동을 보장합니다.
저입자 및 클린룸 호환성
반도체 등급의 Vespel 재료를 정밀 가공, 미세 베벨링 및 클린 포장을 결합하여 엄격한 클린룸 및 고순도 공정 요구 사항을 충족하면서 오염 위험을 최소화합니다.

응용 프로그램：

포토마스크 및 광학 고정구: 포토마스크 픽, 지지 블록
웨이퍼 핸들링: 웨이퍼 핀, 패드, 위치 지정 구성 요소
진공 / 열 공정: 절연 스페이서, 고정구 스페이서
식각 / 박막 / CVD / PECVD / 식각 공정 구성 요소
CMP 공정: 유지 링, 지지 고정구
반도체 및 패널 산업을 위한 고순도 화학 저항 구성 요소

Shen-Yueh의 Vespel 반도체 부품을 선택함으로써, 전문 가공의 이점과 완전 맞춤형 솔루션을 얻을 수 있습니다. 이는 공정 신뢰성을 향상시키고, 부품 수명을 연장하며, 보다 정밀하고 효율적인 생산 작업 흐름을 위해 테스트 시간을 단축합니다.

베스펠 시리즈

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VESPEL CR6100 플라스틱 가공

우리는 반도체 산업을 위한 맞춤형 솔루션을 제공하는 VESPEL CR6100 플라스틱...

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VESPEL 플라스틱 가공

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