黄光光阻盖板
我们的黄光光阻盖板专为半导体黄光制程中的旋涂设备(Spin Coater)设计,用于控制光阻涂布过程中的液体流动路径,减少光阻液飞溅与溢流,同时维持设备腔体内的洁净度,确保制程环境的稳定性。
产品采用高强度铝合金或具优异化学耐性的材料制作,结合精密CNC 加工与表面特殊处理,使盖板在高速旋转与化学环境中仍能保持良好的尺寸稳定性与耐用性,适用于各类半导体黄光制程旋涂设备。
产品优点
- 两片对开式结构设计:采用两片式对开结构,搭配精密转轴与锁附机构,方便快速拆装与清洁维护,可有效缩短设备保养与维修时间。
- 高精密CNC 加工:透过精密CNC 加工控制真圆度与平面度,使盖板与设备结构良好贴合,提升旋涂制程的稳定性。
- 优异的耐化学性:表面可进行阳极处理、硬质阳极或特殊涂层处理,具备良好的耐溶剂与耐酸碱特性,适用于光阻制程环境。
- 低发尘设计(Low Particle):细致的表面加工可降低药液附着与微粒产生,符合无尘室制程对低污染的要求。
- 依客户设备需求设计:可依设备需求进行设计与制作。
产品应用
- 半导体黄光制程: 旋涂机(Coater)内部的光阻防护与流场控制。
- 晶圆边缘保护: 防止制程中药液对晶圆边缘及背面的污染。
- 设备组件更换: 适用于各式主流半导体黄光设备之耗材替换
产品规格
项目 | 客制化说明 |
材质 | 高纯度铝合金、不锈钢、或特殊工程塑胶 |
表面处理 | 阳极、硬质阳极、Teflon 涂层 |
适用尺寸 | 支援4" / 6" / 8" / 12" 晶圆制程设备, |
结构形式 | 两片对开式/ 铰链固定式 |
若您有设备图面、样品或制程条件需求,欢迎与我们联系。
我们可依实际使用环境评估材料与结构配置,提供专属客制化设计建议。



