黃光光阻蓋板
我們的黃光光阻蓋板專為半導體黃光製程中的旋塗設備(Spin Coater)設計,用於控制光阻塗佈過程中的液體流動路徑,減少光阻液飛濺與溢流,同時維持設備腔體內的潔淨度,確保製程環境的穩定性。
產品採用高強度鋁合金或具優異化學耐性的材料製作,結合精密 CNC 加工與表面特殊處理,使蓋板在高速旋轉與化學環境中仍能保持良好的尺寸穩定性與耐用性,適用於各類半導體黃光製程旋塗設備。
產品優點
- 兩片對開式結構設計: 採用兩片式對開結構,搭配精密轉軸與鎖附機構,方便快速拆裝與清潔維護,可有效縮短設備保養與維修時間。
- 高精密 CNC 加工: 透過精密 CNC 加工控制真圓度與平面度,使蓋板與設備結構良好貼合,提升旋塗製程的穩定性。
- 優異的耐化學性: 表面可進行陽極處理、硬質陽極或特殊塗層處理,具備良好的耐溶劑與耐酸鹼特性,適用於光阻製程環境。
- 低發塵設計(Low Particle): 細緻的表面加工可降低藥液附著與微粒產生,符合無塵室製程對低污染的要求。
- 依客戶設備需求設計: 可依設備需求進行設計與製作。
產品應用
- 半導體黃光製程: 旋塗機(Coater)內部的光阻防護與流場控制。
- 晶圓邊緣保護: 防止製程中藥液對晶圓邊緣及背面的污染。
- 設備組件更換: 適用於各式主流半導體黃光設備之耗材替換
產品規格
項目 | 客製化說明 |
材質 | 高純度鋁合金、不鏽鋼、或特殊工程塑膠 |
表面處理 | 陽極、硬質陽極、Teflon 塗層 |
適用尺寸 | 支援 4" / 6" / 8" / 12" 晶圓製程設備, |
結構形式 | 兩片對開式 / 鉸鏈固定式 |
若您有設備圖面、樣品或製程條件需求,歡迎與我們聯繫。
我們可依實際使用環境評估材料與結構配置,提供專屬客製化設計建議。



